ガラスおよび他の誘電体基体上のグラフェンの無金属ＣＶＤコーティング

摘要

グラフェンを形成するための無触媒ＣＶＤ方法。この方法は、基体を反応槽内に置く工程、基体を６００℃と１１００℃の間の温度に加熱する工程、および槽内に炭素前駆体を導入して、基体の表面上にグラフェン層を形成する工程を有してなる。この方法は、グラフェンを形成するためにプラズマや金属触媒を使用しない。