導電パターンの製造方法及び導電パターン形成基板

摘要

【課題】簡易に挟ピッチを実現することができる導電パターンの製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。【解決手段】基板１０の少なくとも一方の主面の全部または一部の面に、金属ナノワイヤ層１２を形成し、所定のパターンで透光部１４ａが形成されたマスク１４を介してパルス光を照射し、上記所定パターン形状の領域で上記金属ナノワイヤ層１２中の金属ナノワイヤを焼結し、上記所定パターン形状の領域に導電性を発現させる。これにより、任意のパターンの導電パターンを備える基板を簡易な工程で製造することができる。【選択図】図１