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发明名称
流体処理方法
摘要
被処理流動体の処理特性を効率的に制御する流体処理方法を提供することを課題とする。接近・離反可能な、相対的に回転する処理用面1、2を備え、被処理流動体を、処理用面1、2間の処理領域に内側から外側に向けて通過せさて薄膜流体とし、前記薄膜流体となった被処理流動体の処理を行なう。回転の中心から中間導入部d2までの距離(Cd)に対する、回転の中心から外周端までの距離(Od)の割合(Od/Cd)を変化させることにより、処理特性を制御する。
申请公布号
JPWO2014178387(A1)
申请公布日期
2017.02.23
申请号
JP20150514854
申请日期
2014.04.28
申请人
エム・テクニック株式会社
发明人
榎村 眞一
分类号
B01J19/00;B01F3/08;B01F3/12;B01F13/00;B01J13/00
主分类号
B01J19/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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