发明名称 微細気泡を用いた水処理プロセスの制御方法及び水処理システム
摘要 【課題】浮上分離にて水面付近に形成されたブランケットの再分散による、除去対象物質の処理水への混入を防止し、処理水質を良好に維持し得る微細気泡を用いた水処理プロセスの制御方法及び水処理システムを提供する。【解決手段】水処理システム1は、被処理水W1に微細気泡4を供給する気泡供給部22、及び微細気泡4を含有する被処理水W1を導入し被処理水中の夾雑物を浮上分離する水処理槽23を有する水処理装置2と、予め被処理水中の夾雑物の越流量と水処理槽23への被処理水導入流量との相関関係を格納する制御用データベース33、及びスラッジブランケット5を除去する場合、制御用データベース33を参照し水処理槽23への被処理水W1の導入量を制御する制御部32を有する制御装置3を備える。【選択図】 図1
申请公布号 JP2017039103(A) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150163828 申请日期 2015.08.21
申请人 株式会社日立製作所 发明人 圓佛 伊智朗;日高 政隆;武本 剛
分类号 C02F1/24;C02F1/78 主分类号 C02F1/24
代理机构 代理人
主权项
地址