发明名称 Halbleitervorrichtung und Halbleitervorrichtungsherstellungsverfahren
摘要 Eine Halbleitervorrichtung, die einen Mesa-Abschnitt, der auf einer Vorderseite eines Halbleitersubstrats gebildet ist; einen schwebenden Abschnitt, der auf der Vorderseite des Halbleitersubstrats gebildet ist; einen Graben, der so gebildet ist, dass er den schwebenden Abschnitt umgibt, und der den Mesa-Abschnitt von dem schwebenden Abschnitt trennt; eine Elektrode, die innerhalb des Grabens gebildet ist; und einen äußeren Verdrahtungsabschnitt, der entlang einer Anordnungsrichtung des Mesa-Abschnitts und des schwebenden Abschnitts gebildet ist, außerhalb des Bereichs, der von dem Graben umgeben ist, enthält. Ein Rand des äußeren Verdrahtungsabschnitts auf der Seite des Mesa-Abschnitts und schwebenden Abschnitts enthält einen hervorstehenden Abschnitt, der in wenigstens einem Teil eines Bereichs gegenüber dem schwebenden Abschnitt gebildet ist und über den Graben hinaus zu der Seite des schwebenden Abschnitts hervorsteht, und einen ausgesparten Abschnitt, der in wenigstens einem Teil eines Bereichs gegenüber dem Mesa-Abschnitt gebildet ist und zu der Seite des äußeren Verdrahtungsabschnitts weiter als der hervorstehende Abschnitt ausgespart ist.
申请公布号 DE112015002120(T5) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 DE20151102120T 申请日期 2015.09.15
申请人 FUJI ELECTRIC CO., LTD. 发明人 Naito, Tatsuya
分类号 H01L29/06;H01L21/336;H01L29/739;H01L29/78 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
主权项
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