| 摘要 |
【課題】電極ロールへの成膜材料の付着を防止し、膜欠陥の低減された成膜が可能となるプラズマＣＶＤ成膜装置を提供する。【解決手段】本発明によれば、基材の少なくとも一方の面に膜を形成するプラズマＣＶＤ成膜装置であって、磁場形成手段を備えた第一電極ロールと、第一電極ロールに対向して配置された、磁場形成手段を備えた第二電極ロールと、を備え、前記第一電極ロールおよび第二電極ロールの少なくとも一方の表面エネルギーが１０〜３０ｍＮ／ｍであり、かつ、摩擦係数が０．１〜０．４であるプラズマＣＶＤ成膜装置が提供される。【選択図】図１ |
