| 摘要 |
【課題】ＴＦＴ特性の劣化を抑えることができる液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】液晶表示装置の製造方法は、ゲート絶縁膜上にｉ型アモルファスシリコン膜とｎ＋型アモルファスシリコン膜と金属層とを順に成膜する工程と、レジストパターンを用いて前記金属層の一部をエッチング除去する工程と、前記レジストパターンの一部をアッシング除去するとともに前記ｎ＋型アモルファスシリコン膜上に酸化膜を形成する工程と、前記レジストパターンを用いて前記酸化膜と前記ｎ＋型アモルファスシリコン膜と前記ｉ型アモルファスシリコン膜とをエッチング除去する工程と、前記金属層をエッチング除去する工程と、前記ｎ＋型アモルファスシリコン膜を除去する工程と、を含む。【選択図】図９ |
