发明名称 極端紫外光生成システム
摘要 この極端紫外光生成システムは、チャンバと、チャンバ内のプラズマ生成領域に向けてターゲットを出力するように構成されたターゲット生成部と、ターゲットに、第1プリパルスレーザ光、第2プリパルスレーザ光及びメインパルスレーザ光がこの順で照射されるように、第1プリパルスレーザ光、第2プリパルスレーザ光及びメインパルスレーザ光を生成するレーザシステムと、第2プリパルスレーザ光のフルーエンスが、1J/cm2以上、且つ、メインパルスレーザ光のフルーエンス以下となるように、レーザシステムを制御する制御部と、を含んでもよい。
申请公布号 JPWO2014192872(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150519937 申请日期 2014.05.29
申请人 ギガフォトン株式会社 发明人 柳田 達哉;若林 理
分类号 H05G2/00;G03F7/20 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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