发明名称 レジスト組成物
摘要 【課題】CD均一性(CDU)が良好なレジストパターンを製造できる化合物、樹脂、レジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物、式(I)で表される構造単位を導く化合物及びこれを含む樹脂。[式(I)中、R1は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。L1は、置換基を有していてもよい2価の炭化水素基又は*−L2−X1−L3−を表す。*は、酸素原子との結合手を表す。L2は、置換基を有していてもよい2価の炭化水素基を表す。L3は、単結合又は置換基を有していてもよい2価の炭化水素基を表す。X1は、酸素原子、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。R2は、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。]【選択図】なし
申请公布号 JP2017040914(A) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20160155591 申请日期 2016.08.08
申请人 住友化学株式会社 发明人 増山 達郎;中野 翔太;市川 幸司
分类号 G03F7/039;C08F20/38;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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