| 摘要 |
本発明は、基板の上側に第１層を形成する工程、上記第１層に放射線を照射し、上記第１層の表面に互いに極性の異なる第１領域及び第２領域を形成する工程、上記第１領域及び第２領域の上側に、相分離構造を有する第２層を自己組織化材料により形成する工程、及び上記第２層の一部を除去する工程を備える自己組織化リソグラフィプロセスにおいて、上記第１層の形成に用いるポリシロキサン組成物であり、下記式（ｉ）で表されるシラン化合物の加水分解縮合物であり、かつ酸の作用により極性が変化するポリシロキサン、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、及び溶媒を含有し、上記溶媒がエーテル系溶媒、エステル系溶媒、又はエーテル系溶媒及びエステル系溶媒を含むポリシロキサン組成物である。 |
