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发明名称
配線基板の製造方法、および配線基板
摘要
【課題】酸化物の存在による密着強度の低下を抑制し、信頼性の高い配線基板を得る。【解決手段】導電層の上に絶縁層が積層され、該絶縁層を貫通する貫通孔が形成された前記配線基板材料を、アンモニウムイオンを含む溶液に浸漬する浸漬工程と、前記貫通孔が形成された前記配線基板材料に対して、酸素を含んだ雰囲気中で紫外線を照射する光照射工程と、前記浸漬工程および前記光照射工程の両方を経た配線基板材料の、前記貫通孔の底を含む表面に、導電材料からなるめっき層を形成するめっき工程と、を含む。【選択図】 図1
申请公布号
JP2017041553(A)
申请公布日期
2017.02.23
申请号
JP20150162877
申请日期
2015.08.20
申请人
ウシオ電機株式会社
发明人
堀部 大輝;饗庭 彰
分类号
H05K3/42;H05K3/40
主分类号
H05K3/42
代理机构
代理人
主权项
地址
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