发明名称 半導体装置及びその製造方法
摘要 半導体装置は、第1電極122を含む第1表面層112が設けられた第1基板101と、第2電極142を含む第2表面層132とを有し、第2表面層132を第1表面層112と接するようにして第1基板101と直接接合された拡張第2基板102と、第1基板101又は第2基板131を貫通する貫通電極113とを備えている。第2表面層132は、第2基板131及び樹脂部135により構成された拡張第2主面172Aの上に設けられている。第2基板131の平面サイズは、第1基板101の平面サイズよりも小さく、第1電極122と第2電極142とは、互いに接して接続されている。
申请公布号 JPWO2014196105(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150521263 申请日期 2014.02.19
申请人 パナソニックIPマネジメント株式会社 发明人 宮島 弘樹
分类号 H01L25/065;H01L21/3205;H01L21/60;H01L21/768;H01L23/12;H01L23/522;H01L25/07;H01L25/18 主分类号 H01L25/065
代理机构 代理人
主权项
地址