发明名称 |
レジスト下層膜形成用組成物 |
摘要 |
[課題]限界寸法均一性や焦点深度マージンを改善することのできるデンドリマー化合物、および下層反射防止膜を形成することができる組成物の提供。[解決手段]エーテル結合またはチオエーテル結合とを有する骨格の末端に、ハロゲン化アルキル基置換された芳香族基および2以上のOH基を有するデンドリマー化合物、およびそれを含む下層反射防止膜形成用組成物。 |
申请公布号 |
JPWO2014196509(A1) |
申请公布日期 |
2017.02.23 |
申请号 |
JP20150521442 |
申请日期 |
2014.06.03 |
申请人 |
アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ |
发明人 |
中 杉 茂 正;絹 田 貴 史;李 晋;柳 田 浩 志;鈴 木 理 人;井 手 泰 明;王 暁 偉 |
分类号 |
C08G65/329;C08G63/91;G03F7/11;H01L21/027 |
主分类号 |
C08G65/329 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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