发明名称 レジスト下層膜形成用組成物
摘要 [課題]限界寸法均一性や焦点深度マージンを改善することのできるデンドリマー化合物、および下層反射防止膜を形成することができる組成物の提供。[解決手段]エーテル結合またはチオエーテル結合とを有する骨格の末端に、ハロゲン化アルキル基置換された芳香族基および2以上のOH基を有するデンドリマー化合物、およびそれを含む下層反射防止膜形成用組成物。
申请公布号 JPWO2014196509(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150521442 申请日期 2014.06.03
申请人 アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 发明人 中 杉 茂 正;絹 田 貴 史;李 晋;柳 田 浩 志;鈴 木 理 人;井 手 泰 明;王 暁 偉
分类号 C08G65/329;C08G63/91;G03F7/11;H01L21/027 主分类号 C08G65/329
代理机构 代理人
主权项
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