发明名称 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
摘要 i線に高い光感度を有し、耐熱安定性に優れ、疎水性材料への溶解性に優れる非イオン系光酸発生剤を提供する。本発明は、下記一般式(1)で表されることを特徴とする非イオン系光酸発生剤(A)である。[式(1)中、R1、R2は互いに独立に、炭素数1〜18のアルキル基もしくは炭素数1〜18のフルオロアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数2〜18のアルキニル基、炭素数6〜18のアリール基、シリル基等を表し、m、nはそれぞれR1、R2の個数を表し、その数は0〜3の整数であり、R1とR2の合計個数(m+n)は1〜6の整数である。m個のR1およびn個のR2はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。R3は炭素数1〜18の炭化水素基(水素の一部又は全部がフッ素で置換されていてよい)を表す。]【化1】
申请公布号 JPWO2015001804(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150525057 申请日期 2014.07.03
申请人 サンアプロ株式会社 发明人 池田 卓也;木村 秀基;柴垣 智幸;岡 昌明
分类号 C09K3/00;C07D221/14;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20 主分类号 C09K3/00
代理机构 代理人
主权项
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