发明名称 荷電粒子ビーム照射システムおよびそのビーム出射方法
摘要 シンクロトロンからイオンビームの出射制御を実施する際、周回しているイオンビームのベータトロン振動振幅を増大させる出射用高周波電極に印加する高周波電圧に起因する出射ビームの電流リップルの発生を抑制し、線量率を向上するため、出射制御装置20は、出射用高周波電極16aに印加する高周波電圧として、シンクロトロン13内を周回するビームをシンクロトロン外に出射されないように、安定限界を超えない範囲で振動振幅を増大させるための第1高周波電圧Fsと、シンクロトロンからビームを出射させるための第2高周波電圧Feとで構成される高周波電圧を印加する。
申请公布号 JPWO2014207852(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150523741 申请日期 2013.06.26
申请人 株式会社日立製作所 发明人 西内 秀晶;平本 和夫
分类号 H05H13/04;A61N5/10;G21K5/04;H05H7/10 主分类号 H05H13/04
代理机构 代理人
主权项
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