一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法

摘要

本发明实施例提供一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法，涉及液晶显示技术领域，能够在曝光过程中降低掩膜板被划伤的几率，从而保护掩膜板，进而降低液晶显示装置的生产成本。该掩膜装置包括掩膜承载体、设置于掩膜承载体的下表面的掩膜板，以及设置于掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，该保护单元的下端低于掩膜板的下表面。该掩膜装置用于对待曝光基板曝光时使用。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，包括掩膜装置和用于承载待曝光基板的曝光台；所述曝光装置还包括控制系统、升降体，以及与所述控制系统和所述升降体均连接的马达和光电感应器，所述控制系统，用于根据所述光电感应器检测到的所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；且若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于0；所述控制系统，还用于计算掩膜板的最大下垂量；并根据预设的曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；所述掩膜板的最大下垂量可以通过光栅测量并计算得到；所述掩膜装置包括掩膜承载体，以及设置于所述掩膜承载体的下表面的掩膜板，所述掩膜装置还包括：设置于所述掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，所述保护单元的下端低于所述掩膜板的下表面；所述每个保护单元包括升降体和用于控制所述升降体在垂直方向上升降的控制模块；所述控制模块包括与所述升降体连接的马达，所述马达，用于控制所述升降体在垂直方向上升降；所述控制模块还包括与所述升降体连接的光电感应器，所述光电感应器，用于检测所述光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙，所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙用于计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，以使得所述升降体的下端低于所述掩膜板的下表面，所述升降体的下端为所述保护单元的下端。