一种等离子清洗设备

摘要

本发明提供一种等离子清洗设备，包括：机体、tray盘、反应腔体，所述机体两侧设有侧盖板，侧盖板上设有散热孔，机体下端设有下盖板，下盖板上侧设有反应腔体，反应腔体通过真空管连接有真空泵，反应腔体上侧设置有射频功率源，射频功率源连接有射频自动匹配器，射频自动匹配器上侧设有设备总控制器，设备总控制器上侧设有流量显示仪。本发明去胶扫胶率达到且去胶均匀性为97％；将气流孔设计成平面，有效的提高了去胶外观品质，也降低了氧气使用量，产量提高15％，有效解决机台数量与大生产之间的瓶颈问题，使员工工作效率提高20％，且避免了报废片的产生。

主权项

一种等离子清洗设备，包括：机体、tray盘、反应腔体，其特征在于：所述机体两侧设有侧盖板，侧盖板上设有散热孔，机体下端设有下盖板，下盖板上侧设有反应腔体，反应腔体通过真空管连接有真空泵，反应腔体上侧设置有射频功率源，射频功率源连接有射频自动匹配器，射频自动匹配器上侧设有设备总控制器，设备总控制器上侧设有流量显示仪；所述反应腔体内设有tray盘，tray盘两端通过深沟轴承放置在导轨上，tray盘下侧设有下电极，tray盘上侧设有上电极，上电极连接到上电极连接板上，下电极与上电极之间设有电极绝缘陶瓷，导轨安装在电极绝缘陶瓷上，反应腔体内部两侧设有下电极支撑架，下电极卡设在下电极支撑架上。