| 发明名称 | 基板处理装置、基板处理方法以及记录有基板处理程序的计算机可读取的记录介质 | ||
| 摘要 | 基板处理装置包括：一边保持基板(3)一边使基板(3)旋转的基板旋转部(11)、向基板供给处理液的处理液供给部(13)以及向基板供给与从处理液供给部供给来的处理液置换的置换液的置换液供给部(14)。在置换液供给部(14)向基板供给置换液时，处理液供给部(13)向比从置换液供给部供给的置换液的基板上的供给位置靠基板的外周侧的位置供给处理液而形成处理液的液膜。不增大置换液的消耗量，就能够维持基板的整个表面被液膜覆盖的状态。 | ||
| 申请公布号 | CN106463377A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201580021891.1 | 申请日期 | 2015.05.01 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 篠原和義;吉田祐希 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置包括：基板旋转部，其一边保持基板一边使所述基板旋转；处理液供给部，其向所述基板供给处理液；以及置换液供给部，其向所述基板供给与从所述处理液供给部供给来的所述处理液置换的置换液，在所述置换液供给部向所述基板供给所述置换液时，所述处理液供给部向比从所述置换液供给部供给的所述置换液的所述基板上的供给位置靠所述基板的外周侧的位置供给所述处理液而形成所述处理液的液膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||