发明名称 紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法
摘要 本发明涉及紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供可得到同时实现透光性及耐热性的可靠性高的图案的紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明涉及紫外线照射装置,其具有:收容部,可在密闭空间内收容基板;照射部,向基板照射紫外线;加热部,被设置在收容部内,对基板进行加热;和升降部,可使基板相对于加热部升降,照射部实施第1照射动作和第2照射动作,所述第1照射动作向未经加热的状态的基板照射紫外线,所述第2照射动作在第1照射动作后、向已被加热的状态的基板照射紫外线,在第1照射动作中,升降部使基板从加热部退避至上方。
申请公布号 CN106444289A 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201610643283.0 申请日期 2016.08.08
申请人 东京应化工业株式会社 发明人 稻尾吉浩;小西清孝;佐藤晶彦;细田浩
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 杨宏军
主权项 紫外线照射装置,其具有:收容部,所述收容部可在密闭空间内收容基板;照射部,所述照射部向所述基板照射紫外线;加热部,所述加热部被设置在所述收容部内,对所述基板进行加热;和升降部,所述升降部可使所述基板相对于所述加热部升降,所述照射部实施第1照射动作和第2照射动作,所述第1照射动作向未经加热的状态的所述基板照射紫外线,所述第2照射动作在所述第1照射动作后、向已被加热的状态的所述基板照射紫外线,在所述第1照射动作中,所述升降部使所述基板从所述加热部退避至上方。
地址 日本神奈川县