一种涂胶表面处理装置

摘要

本实用新型公开了一种涂胶表面处理装置，包括平行布置的上辊和下辊，以及用于定位上辊、下辊的机架，所述的机架上设有可沿下辊轴向转动的主支架，所述的主支架上设有与下辊配合的刮刀，所述的主支架的一侧设有副支架，所述副支架的上设有风刀以及调节风刀与上辊间距的平移架，所述的副支架上设有与平移架滑动配合的导轨，所述的平移架上设有带动风刀回转的转架。本实用新型旨在提供一种将多余的胶水去除、保证胶层平整的涂胶表面处理装置。

主权项

一种涂胶表面处理装置，其特征是，包括平行布置的上辊（9）和下辊（11），以及用于定位上辊（9）、下辊（11）的机架（14），所述的机架（14）上设有可沿下辊（11）轴向转动的主支架（13），所述的主支架（13）上设有与下辊（11）配合的刮刀（8），所述的主支架（13）的一侧设有副支架（1），所述副支架（1）上设有风刀（7）以及调节风刀（7）与上辊（9）间距的平移架（2），所述的副支架（1）上设有与平移架（2）滑动配合的导轨（1a），所述的平移架（2）上设有带动风刀（7）回转的转架（6），所述平移架（2）包括顶板（2b）和底板（2a），所述底板（2a）的底面上设有与导轨（1a）配合的导向槽，所述顶板（2b）靠近上辊（9）的一边与底板（2a）转动连接，顶板（2b）的相对边上设有与底板（2a）上表面相抵的调节螺栓（5），所述的副支架（1）上设有带动平移架（2）移动的平移气缸（3）。