| 摘要 |
본 발명은 LCD 제조용 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, TFT-LCD를 제조하기 위한 모든 공정에 사용할 수 있는 통합 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 전이 금속, 전위 금속 및 산화물 반도체 배선에 모두 적용 가능한 수계형 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다. 상기 수계형 포토레지스트 박리액 조성물은 (a) 전위 금속 및 금속 산화물 부식 방지제, (b) 전이 금속 부식 방지제, (c) 1차 알칸올 아민, (d) 환형 알코올, (e) 물, (f) 비 양자성 극성 유기 용제, (g) 양자성 극성 유기 용제를 포함하며, 하드 베이크(Hard Baked) 공정, 주입(Implant) 공정 및 건식 식각(Dry Etch) 공정의 진행 이후 발생하는 변형 포토레지스트에 대한 제거능력이 뛰어나며, 전위 금속인 알루미늄, 전이 금속인 구리 또는 은 및 금속 산화물 배선에 동시 적용할 수 있으며, 유기막 및 COA공정에 도입 가능하다. |
