用于终点检测的序列特征跟踪

摘要

控制抛光的方法包含以下步骤：抛光基板，所述基板具有覆盖于第一层上的第二层；利用原位监测系统检测第一层的暴露；接收所选择的光谱特征的标识以及所选择的光谱特征的特性以在抛光期间监测；在基板正在经抛光时，测量来自基板的光的光谱的序列；在第一原位监测技术检测到第一层的暴露时，确定用于特征的特性的第一值；将偏移加到第一值以生成第二值；以及监测特征的特性；以及当确定了特征的特性达到第二值时，停止抛光。

主权项

一种控制抛光的方法，所述方法包含以下步骤：抛光基板；当所述基板正在经抛光时，利用原位光谱光学监测系统测量从所述基板反射的光的光谱的第一序列；选择所述光谱的第一序列中的第一光谱特征，所述第一光谱特征具有通过所述光谱的第一序列的演进的第一位置；对于来自所述光谱的第一序列的每一个测量光谱，确定所述第一光谱特征的第一位置值以生成第一位置值的序列；基于所述第一位置值的序列，确定所述第一光谱特征的位置已越过第一边界；在所述第一光谱特征已越过所述第一边界之后，当所述基板正在经抛光时，测量从所述基板反射的光的光谱的第二序列；当确定了所述第一光谱特征的位置已越过所述第一边界后，选择第二光谱特征，所述第二光谱特征具有通过所述光谱的第二序列的演进的第二位置；对于来自所述光谱的第二序列的每一个测量光谱，确定所述第二光谱特征的第二位置值以生成第二位置值的序列；以及基于所述第二位置值的序列而进行以下至少一项操作：触发抛光终点；或调整抛光参数。