发明名称 |
用于制造母模的方法、由该方法制造的母模、用于制造透明光掩模的方法、由该方法制造的透明光掩模以及使用该透明光掩模形成导电网格图案的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种制造母模的方法、由该方法制造的母模、制造透明光掩模的方法、由该方法制造的透明光掩模以及使用该透明光掩模制造导电网格图案的方法。 |
申请公布号 |
CN106462087A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201580008070.4 |
申请日期 |
2015.02.13 |
申请人 |
株式会社LG化学 |
发明人 |
朴正岵;郑镇美;郑有珍;辛富建 |
分类号 |
G03F7/26(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01J1/30(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/26(2006.01)I |
代理机构 |
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 |
代理人 |
李静;黄丽娟 |
主权项 |
一种制造母模的方法,包括:a)在基板上形成第一光敏材料层;b)通过使刻有线形图案的透明光掩模与所述第一光敏材料层的上表面接触而形成第一光敏材料图案层;c)在具有所述第一光敏材料图案层的基板上形成第二光敏材料层;d)使刻有线形图案的透明光掩模与所述第二光敏材料层的上表面接触,使得所述第一光敏材料图案层的线形图案与所述透明光掩模的线形图案交叉而在基板上形成第二光敏材料图案层;e)蚀刻基板上未形成所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层的部分;以及f)去除所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层。 |
地址 |
韩国首尔 |