| 发明名称 | 光刻设备及制造光刻设备的方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备包括：通道(46)，用于两相流从其中通过，其中通道形成在块体内，所述块体具有第一材料(100)；第二材料(160)，介于第一材料和通道之间，其中第二材料具有大于第一材料的比热容的比热容；和第三材料(90)，介于第二材料和通道之间，其中第三材料具有大于第二材料的导热率的导热率。 | ||
| 申请公布号 | CN106462082A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201580031089.0 | 申请日期 | 2015.05.07 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | R·H·M·考蒂;C·W·J·贝德伦森;A·B·珍宁科;A·H·考沃埃特斯;J·V·奥沃卡姆普;S·A·特姆普;V·V·伟越;D·E·R·阿登纳特德 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王静 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括：通道，用于两相流从其中通过，其中通道形成在块体内，所述块体具有第一材料；第二材料，介于第一材料和通道之间，其中第二材料具有大于第一材料的比热容的比热容和/或小于第一材料的导热率的导热率；和第三材料，介于第二材料和通道之间，其中第三材料具有大于第二材料的导热率的导热率。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||