发明名称 在物体表面形成保护层的方法及表面形成有保护层的产品
摘要 本发明提供一种在物体表面形成保护层的方法,包括:将所述物体的至少一部分表面暴露于等离子体中,形成所述等离子体的气体至少包括由化学式(I)表示的化合物,<img file="DDA0001112812080000011.GIF" wi="1054" he="481" />其中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>分别独立地选自氢、烷基、烯烃、卤代烷基、卤代烯烃或任选地氢被卤素取代的芳基。R<sup>4</sup>、R<sup>5</sup>、R<sup>6</sup>分别独立地选自氢、氯、溴、碘、烷基、烯烃、羟基、卤代烷基、卤代烯烃、任选地氢被卤素取代的芳基或者由‑O‑R<sup>7</sup>的基团,其中R<sup>7</sup>选自烷基。本发明还提供一种表面形成有保护层的产品,该保护层通过上述方法形成于所述产品的表面。
申请公布号 CN106433454A 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201610815598.9 申请日期 2016.09.12
申请人 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 发明人 王俊
分类号 C09D183/08(2006.01)I 主分类号 C09D183/08(2006.01)I
代理机构 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 代理人 董红曼
主权项 一种在物体表面形成保护层的方法,其特征在于,包括:将所述物体的至少一部分表面暴露于等离子体中,形成所述等离子体的气体至少包括由化学式(I)表示的化合物,<img file="FDA0001112812060000011.GIF" wi="1054" he="481" />其中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>分别独立地选自氢、烷基、烯烃、卤代烷基、卤代烯烃或任选地氢被卤素取代的芳基;R<sup>4</sup>、R<sup>5</sup>、R<sup>6</sup>分别独立地选自氢、氯、溴、碘、烷基、烯烃、羟基、卤代烷基、卤代烯烃、任选地氢被卤素取代的芳基或者由‑O‑R<sup>7</sup>的基团,其中R<sup>7</sup>选自烷基。
地址 201100 上海市闵行区紫海路170号