发明名称 |
在物体表面形成保护层的方法及表面形成有保护层的产品 |
摘要 |
本发明提供一种在物体表面形成保护层的方法,包括:将所述物体的至少一部分表面暴露于等离子体中,形成所述等离子体的气体至少包括由化学式(I)表示的化合物,<img file="DDA0001112812080000011.GIF" wi="1054" he="481" />其中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>分别独立地选自氢、烷基、烯烃、卤代烷基、卤代烯烃或任选地氢被卤素取代的芳基。R<sup>4</sup>、R<sup>5</sup>、R<sup>6</sup>分别独立地选自氢、氯、溴、碘、烷基、烯烃、羟基、卤代烷基、卤代烯烃、任选地氢被卤素取代的芳基或者由‑O‑R<sup>7</sup>的基团,其中R<sup>7</sup>选自烷基。本发明还提供一种表面形成有保护层的产品,该保护层通过上述方法形成于所述产品的表面。 |
申请公布号 |
CN106433454A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201610815598.9 |
申请日期 |
2016.09.12 |
申请人 |
上海至纯洁净系统科技股份有限公司 |
发明人 |
王俊 |
分类号 |
C09D183/08(2006.01)I |
主分类号 |
C09D183/08(2006.01)I |
代理机构 |
上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 |
代理人 |
董红曼 |
主权项 |
一种在物体表面形成保护层的方法,其特征在于,包括:将所述物体的至少一部分表面暴露于等离子体中,形成所述等离子体的气体至少包括由化学式(I)表示的化合物,<img file="FDA0001112812060000011.GIF" wi="1054" he="481" />其中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>分别独立地选自氢、烷基、烯烃、卤代烷基、卤代烯烃或任选地氢被卤素取代的芳基;R<sup>4</sup>、R<sup>5</sup>、R<sup>6</sup>分别独立地选自氢、氯、溴、碘、烷基、烯烃、羟基、卤代烷基、卤代烯烃、任选地氢被卤素取代的芳基或者由‑O‑R<sup>7</sup>的基团,其中R<sup>7</sup>选自烷基。 |
地址 |
201100 上海市闵行区紫海路170号 |