发明名称 - SB-TE BASED ALLOY SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET
摘要 카본 또는 붕소를 0.1 ∼ 30 at% 함유하는 Sb-Te기 합금 소결체 스퍼터링 타깃으로서, Sb-Te기 합금 입자와 미소한 카본 (C) 또는 붕소 (B) 의 입자의 균일한 혼합 조직을 구비하고, Sb-Te기 합금 입자의 평균 결정 입경이 3 ㎛ 이하, 표준 편차가 1.00 미만이고, C 또는 B 의 평균 입자경이 0.5 ㎛ 이하, 표준 편차가 0.20 미만이고, 상기 Sb-Te기 합금 입자의 평균 결정 입경을 X, 카본 또는 붕소의 평균 입자경을 Y 로 한 경우, Y/X 가 0.1 ∼ 0.5 의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 Sb 및 Te 를 주성분으로 하는 Sb-Te기 합금 소결체 스퍼터링 타깃. Sb-Te기 합금 스퍼터링 타깃 조직의 개선을 도모하고, 소결 타깃의 크랙 발생을 억제하며, 스퍼터링시에 아킹의 발생을 방지한다.
申请公布号 KR20170020541(A) 申请公布日期 2017.02.22
申请号 KR20177003721 申请日期 2011.04.21
申请人 제이엑스금속주식회사 发明人 다카하시 히데유키;고이도 요시마사
分类号 C23C14/34;C04B35/547;C04B35/626;C04B35/645;C22C1/04;C22C12/00;C22C28/00;C23C14/06 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
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