| 发明名称 | 用于补偿曝光过程中的曝光误差的方法 | ||
| 摘要 | 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。 | ||
| 申请公布号 | CN106462080A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201580030265.9 | 申请日期 | 2015.04.24 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | C·W·J·贝伦德森;M·贝克斯;H·J·卡斯特里杰恩斯;H·A·格瑞斯;A·H·凯沃特斯;L·M·勒瓦希尔;P·沙普;B·斯特瑞夫科尔克;S·A·特罗普 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 王茂华;吕世磊 |
| 主权项 | 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，所述光刻设备包括衬底台，所述方法包括：获得剂量测量，所述剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中所述剂量测量能够用来计算曝光过程期间由所述光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用所述剂量测量来控制所述曝光过程，以便补偿与所述曝光过程期间由所述物体吸收的所述IR辐射相关联的曝光误差。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||