曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于涂有光刻胶的硅片上，所述曝光装置包括曝光系统、运动台系统、测量系统、对准系统及传输系统，所述曝光系统用于将电路图形投影于所述硅片上，所述运动台系统用于承载掩模版和硅片，并具备快速步进、定位及微调能力，所述测量系统用于测量工件台及掩模台长行程的相对运动距离，所述对准系统用于测量所述掩模版、掩模台和工件台三者之间的相对位置，所述传输系统用于所述掩模版及硅片的交换工作，本发明提供的曝光装置在增大曝光视场、减小框架稳定时间、提高产率等方面提供了一些解决方案，以提高曝光装置的曝光精度，增加曝光装置的曝光效率。

主权项

一种曝光装置，用于将电路图形投影于涂有光刻胶的硅片上，其特征在于，包括整机框架系统、传输系统以及设置在所述整机框架系统内部的曝光系统、运动台系统、测量系统和对准系统，所述曝光系统用于将电路图形投影于所述硅片上，包括照明模块、物镜及灯室，所述物镜采用放大倍率，所述运动台系统包括掩模台和工件台，所述掩模台和工件台分别用于承载掩模版和硅片，所述掩模台的长行程采用粗微动结构，所述工件台上还设有反力外引机构，所述测量系统用于测量工件台及掩模台长行程的相对运动距离，所述对准系统用于测量所述掩模版、掩模台和工件台三者之间的相对位置，所述传输系统用于所述掩模版及硅片的交换工作；所述整机框架系统包括减振器系统以及由所述减振器系统分隔开的内部框架和外部框架；所述运动台系统还包括工件台长行程电机定子，所述反力外引机构包括两个工件台反力外引支架、弹簧和缓冲器，所述两个工件台反力外引支架间隔设置于所述整机框架系统的外部框架上，所述工件台长行程电机定子的一端通过所述弹簧与一工件台反力外引支架连接，另一端通过所述缓冲器与另一工件台反力外引支架连接，所述工件台在所述工件台长行程电机定子上运动。