发明名称 APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR SUPPLYING LIQUID
摘要 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본발명의 실시예에 따른 기판 j리 장치는 헤드 유닛 및 액 공급 유닛을 가진다. 헤드 유닛은 헤드 유닛 내부로 액이 공급되는 액 유입구를 가진다. 액 공급 유닛은 액 유입구에 삽입되어 헤드 유닛에 액을 공급하는 노즐을 가진다. 헤드 유닛이 이동하여 노즐이 액 유입구에 삽입 가능한 위치까지 이동하면 노즐이 이동하여 액 유입구에 삽입되어 액을 공급한다. 액 공급이 완료된 후, 노즐은 액 유입구에서 분리된다.
申请公布号 KR101703684(B1) 申请公布日期 2017.02.22
申请号 KR20140065998 申请日期 2014.05.30
申请人 세메스 주식회사 发明人 박태현;박준우;이상화
分类号 H01L21/67;B05D1/02;G03F7/16 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人
主权项
地址