基于分离式补偿阴极提高膜层厚度均匀性和能量利用率的微弧氧化装置

摘要

基于分离式补偿阴极提高膜层厚度均匀性和能量利用率的微弧氧化装置，涉及工件表面微弧氧化领域。解决了现有微弧氧化技术中存在工件氧化膜层厚度不均匀以及电解液等效阻抗导致的能量利用率低的问题。上阴极架为“U”型结构，且架设在微弧槽上，上阴极架的底板上开设有阵列通孔，绝缘架通过螺栓固定在上阴极架的上表面，阳极杆为长方体长杆，阳极杆的两端通过螺栓固定在绝缘架上，工件挂杆的一端位于微弧槽中，且设有弯钩，工件挂杆的另一端穿过上阴极架的底板上的通孔，并通过阳极夹固定在阳极杆上，补偿阴极挂杆的一端设有弯钩，补偿阴极挂杆通过该弯钩架在上阴极架的底板上，补偿阴极板与补偿阴极挂杆的另一端固定连接。本发明适用于微弧氧化。

主权项

基于分离式补偿阴极提高膜层厚度均匀性和能量利用率的微弧氧化装置，其特征在于，它包括微弧槽(1)、上阴极架(2)、阳极杆(3)、工件挂杆(4)、补偿阴极挂杆(5)、补偿阴极板(6)、绝缘架(7)和阳极夹(8)，所述上阴极架(2)为“U”型结构，且架设在微弧槽(1)上，上阴极架(2)的底板上开设有阵列通孔，绝缘架(7)通过螺栓固定在上阴极架(2)的上表面，所述阳极杆(3)的两端通过螺栓固定在绝缘架(7)上，工件挂杆(4)的一端位于微弧槽(1)中，且设有弯钩，工件挂杆(4)的另一端穿过上阴极架(2)的底板上的通孔，并通过阳极夹(8)固定在阳极杆(3)上，补偿阴极挂杆(5)的一端设有弯钩，补偿阴极挂杆(5)通过该弯钩架在上阴极架(2)的底板上，补偿阴极板(6)与补偿阴极挂杆(5)的另一端固定连接，且所述补偿阴极板(6)位于微弧槽(1)中，所述补偿阴极板(6)上开有多个通孔，待氧化的工件挂在阳极杆(3)的底部，使工件完全浸没在电解液中，补偿阴极板(6)通过补偿阴极挂杆(5)挂在上阴极架(2)的通孔中，补偿阴极板(6)的放置位置根据待氧化工件所需氧化膜层的厚度决定，这样，补偿阴极板(6)、微弧槽(1)以及上阴极架(2)就组成了阴极系统，能够有效的提高待氧化工件的氧化膜层均匀性。