发明名称 MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT AND SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT
摘要 제1 주면에 반도체층이 형성된 질화 알루미늄 기판(1)을 챔버(51) 내에 설치하는 설치 공정과, 챔버(51) 내에 물(HO) 분자를 도입한 상태에서 그 챔버(51) 내를 가열하고, 질화 알루미늄 기판(1)의 제1 주면의 반대측에 위치하는 제2 주면(1b) 상에, 아몰퍼스 산화막을 포함하는 산화막을 형성하는 산화막 형성 공정을 구비한다.
申请公布号 KR101709431(B1) 申请公布日期 2017.02.22
申请号 KR20157026539 申请日期 2014.03.28
申请人 아사히 가세이 가부시키가이샤 发明人 다께다, 고우메이;야마다, 사또시
分类号 H01L33/00;C30B29/38;C30B29/40;C30B33/00;H01L33/32;H01L33/44 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人
主权项
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