发明名称 一种平面磁控溅射靶
摘要 本发明公开了一种平面磁控溅射靶,由法兰、压套、通水筒、励磁线圈、电工纯铁套筒、绝缘套筒、水嘴、压板、紧定螺钉、电工纯铁压杆、密封圈、垫圈、绝缘套、压环、螺栓、绝缘隔套、屏蔽罩、开槽沉头螺钉、压紧圈、钕铁硼永久磁铁柱、定位支架部件组成。该平面磁控溅射靶在屏蔽罩设计,励磁线圈、电工纯铁套筒和永久磁铁的结构布置,磁控溅射靶的磁场可调以及冷却结构设计等方面具有独到之处,解决了磁控溅射靶经常遇到的尖端放电、对磁性材料溅射率低以及冷却结构复杂等常见缺点,提高了靶材利用率。本发明结构简单、工作稳定可靠、磁场调节范围大、溅射效率高、维护方便且成本低,可广泛应用于真空磁控溅射镀膜设备上。
申请公布号 CN104404463B 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201410650707.7 申请日期 2014.11.14
申请人 河海大学 发明人 王刚;江少群;王泽华;周泽华;程江波
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人 楼高潮
主权项 一种平面磁控溅射靶,其特征在于它是由法兰(1)、压套(2)、通水筒(3)、励磁线圈(4)、电工纯铁套筒(5)、绝缘套筒(6)、水嘴(7)、压板(8)、紧定螺钉(9)、电工纯铁压杆(10)、密封圈(11)、垫圈(12)、绝缘套(13)、压环(14)、螺栓(15)、绝缘隔套(16)、屏蔽罩(17)、开槽沉头螺钉(18)、压紧圈(19)、钕铁硼永久磁铁柱(20)和定位支架(21)所组成,其中定位支架(21)大端向下水平放置于法兰(1)中央的圆形深凹槽中;电工纯铁套筒(5)和定位支架(21)被固定在法兰(1)中央的圆形深凹槽内;钕铁硼永久磁铁柱(20)叠放于绝缘套筒(6)内,钕铁硼永久磁铁柱(20)一端插入定位支架(21)中心的通孔中,并且其插入端端面与法兰(1)接触,压板(8)大端向下水平放置于电工纯铁套筒(5)和绝缘套筒(6)上端,电工纯铁压杆(10)小端向下穿过压板(8)中心部位的通孔插入绝缘套筒(6)中,压紧钕铁硼永久磁铁柱(20),通过紧定螺钉(9)将压板(8)和电工纯铁压杆(10)紧固;将通水筒(3)直接套在电工纯铁套筒(5)外,并使其一端嵌入法兰(1)的环形凹槽中;水嘴(7)与通水筒(3)通过螺纹连接,接头处采用密封圈(11)密封;对开的阶梯环形压套(2)扣在通水筒(3)的环形凹槽中,通过螺栓(15)将扣在通水筒(3)的环形凹槽中的对开的阶梯环形压套(2)紧固到法兰(1)上,进而将通水筒(3)压紧固定在法兰(1)上,通水筒(3)与法兰(1)接头处以密封圈密封;法兰(1)通过压环(14)压紧,由螺栓(15)紧固到真空室上,法兰(1)与真空室之间以绝缘隔套(16)进行绝缘,螺栓(15)与压环(14)和法兰(1)之间以绝缘套(13)进行绝缘,法兰(1)与绝缘隔套(16)的端面接头处以及绝缘隔套(16)与真空室壁端面接头处均以密封圈(11)密封;靶材放置在法兰(1)另一侧中间的浅凹槽内,通过压紧圈(19)压紧,由开槽沉头螺钉(18)固定在法兰(1)上;屏蔽罩(17)置于靶材四周上方1‑3mm处,通过螺栓(15)固定在真空室壁上,屏蔽罩中心孔的中心线与靶材中心线重合;励磁线圈(4)直接套在通水筒(3)上。
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