磁控溅射磁铁系统及其控制方法和磁控溅射装置

摘要

本发明公开了磁控溅射磁铁系统及其控制方法和磁控溅射装置，所述磁控溅射磁铁系统包括驱动单元、连接单元和至少一个磁单元，磁单元通过连接单元与驱动单元连接；磁单元包括第一磁铁和第二磁铁，第一磁铁和第二磁铁呈中心对称，第一磁铁的磁感应线轨迹与第二磁铁的磁感应线轨迹相反；驱动单元分别驱动第一磁铁和第二磁铁在平行于靶材的平面循环运动，第一磁铁的运动轨迹和第二磁铁的运动轨迹重合，运动轨迹为闭合轨迹。靶材表面的磁感应强度也周期性地发生变动，使靶材上的磁感应强度分布更加均匀，其被消耗的程度更加均匀，提高靶材利用率。上述磁控溅射磁铁系统的控制方法，操作简单，易推广。本发明还提供了具有上述磁铁系统的磁控溅射装置。

主权项

一种磁控溅射磁铁系统，其特征在于，包括驱动单元、连接单元和至少一个磁单元，所述磁单元通过所述连接单元与所述驱动单元连接；所述磁单元包括第一磁铁和第二磁铁，所述第一磁铁和所述第二磁铁呈中心对称，所述第一磁铁的磁感应线轨迹与所述第二磁铁的磁感应线轨迹相反；所述驱动单元分别驱动所述第一磁铁和所述第二磁铁在平行于靶材的平面循环运动，所述第一磁铁的运动轨迹和所述第二磁铁的运动轨迹重合，所述运动轨迹为闭合轨迹。