| 发明名称 | 镀浴组合物和用于钯的无电镀覆的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种镀浴组合物和一种用于通过无电镀覆沉积钯层到基材上的方法。根据本发明的含水酸性镀浴包含钯离子源、还原剂、钯离子的氮化络合剂和选自包含至少两个残基的芳族化合物的水溶性稳定剂，其中至少一个残基为亲水的残基且至少一个残基具有负的中介效应。所述镀浴具有抵抗不期望的分解的提高的稳定性，同时保持足够的镀覆速率。 | ||
| 申请公布号 | CN106460182A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201580019124.7 | 申请日期 | 2015.04.07 |
| 申请人 | 安美特德国有限公司 | 发明人 | C.祖兴特伦克;K.格鲁姆特;J.克拉默 |
| 分类号 | C23C18/44(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H05K3/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 徐晶;李炳爱 |
| 主权项 | 一种用于钯的无电沉积的含水酸性镀浴组合物，其包含：(i) 钯离子源，(ii) 钯离子的氮化络合剂，(iii) 选自甲酸、其衍生物和盐的还原剂，(iv) 选自包含至少两个残基的芳族化合物的水溶性稳定剂，其中至少一个残基为亲水的残基且至少一个残基具有负的中介效应，且其中所述至少一个亲水的残基选自羟基、羧基、磺酸根及其盐；且其中所述至少一个具有负的中介效应的残基选自硝基、腈、乙酰基、羧基和磺酸根。 | ||
| 地址 | 德国柏林 | ||