| 发明名称 | 改善单片清洗机的喷嘴工艺的方法、喷嘴清洗装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种改善单片清洗机的喷嘴工艺的方法和喷嘴清洗装置，该方法包括通过在湿法单片清洗机上安装一个装有清洗液的喷嘴清洗装置，在喷嘴清洗装置的清洗液中定时清洗喷嘴。该装置包括装有清洗液的清洗槽，所述清洗槽可将喷嘴插入其内的清洗液中对喷嘴进行清洗。该方法和装置能够去除堆积在湿法单片清洗机的喷嘴处的污染源、以及喷嘴残留药液形成的污染源，避开了在未进行晶片清洗作业时喷嘴的定时定量喷洒或预先喷洒化学药液时对周边环境的污染，以克服喷嘴的喷洒起始位置的工艺缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN106449481A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201610924729.7 | 申请日期 | 2016.10.24 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 王春伟;李阳柏;张传民;陈建维 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 智云 |
| 主权项 | 一种改善单片清洗机的喷嘴工艺的方法，其特征在于，包括以下步骤：通过在湿法单片清洗机上加装一个装有清洗液的喷嘴清洗装置，将喷嘴放入喷嘴清洗装置的清洗液中清洗，以去除堆积在湿法单片清洗机的喷嘴处的污染源、以及喷嘴残留药液形成的污染源，避开了在未进行晶片清洗作业时喷嘴的定时定量喷洒或预先喷洒化学药液时对周边环境的污染，以克服喷嘴的喷洒起始位置的工艺缺陷。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 | ||