发明名称 |
平面连续扩硼方法 |
摘要 |
本发明涉及一种形成PN结的硼扩散技术,具体涉及一种平面连续扩硼方法,首先将含硼氧化物粉体或含硼氮化物粉体或含硼氧化物粉体与含硼氮化物粉体的混合物与醇类溶液混合后形成喷涂溶液;然后将所形成的喷涂溶液喷涂在硅片表面,通过高温处理后扩散形成PN结。本发明对硅片无污染,工艺温度低,掺杂浓度可控,且使用的连续处理设备无需升温降温工序,可连续操作,解决了硼扩散温度高、均匀性差、以及不能连续化生产的问题,具有较强的实用性,属于更新换代的技术。 |
申请公布号 |
CN106449383A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201610862819.8 |
申请日期 |
2016.09.28 |
申请人 |
北京金晟阳光科技有限公司;莱芜金晟阳光精密设备有限公司 |
发明人 |
许颖;袁向东;袁瑒 |
分类号 |
H01L21/228(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/228(2006.01)I |
代理机构 |
青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 |
代理人 |
马俊荣 |
主权项 |
一种平面连续扩硼方法,其特征在于:包括以下步骤,1)形成喷涂溶液:将含硼氧化物粉体或含硼氮化物粉体或含硼氧化物粉体与含硼氮化物粉体的混合物与醇类溶液混合后形成喷涂溶液;2)硅片表面喷涂:将所形成的喷涂溶液喷涂在硅片表面,通过高温处理后扩散形成PN结。 |
地址 |
100102 北京市朝阳区利泽中园望京科技园E座403B |