| 发明名称 | 研磨垫及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明以提供研磨速度快且平坦化特性优异的研磨垫及其制造方法作为目的。在具有由聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层的研磨垫中，作为所述聚氨酯树脂发泡体的形成材料的聚氨酯树脂通过异氰酸酯末端预聚物的氨基甲酸酯基或者脲基与下式(1)所示的包含烷氧基甲硅烷基的异氰酸酯的异氰酸酯基的反应，在侧链导入烷氧基甲硅烷基：<img file="DDA0001112191160000011.GIF" wi="525" he="335" />(式中，X为OR<sup>1</sup>或OH，R<sup>1</sup>分别独立为碳原子数1～4的烷基，R<sup>2</sup>为碳原子数1～6的亚烷基)。 | ||
| 申请公布号 | CN106457510A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201580013168.9 | 申请日期 | 2015.03.05 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 | 发明人 | 清水绅司 |
| 分类号 | B24B37/24(2006.01)I;B24B37/26(2006.01)I;C08G18/10(2006.01)I;C08G18/83(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;C08G101/00(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 冯雅;陈哲锋 |
| 主权项 | 一种研磨垫，它是具有由聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层的研磨垫，作为所述聚氨酯树脂发泡体的形成材料的聚氨酯树脂通过异氰酸酯末端预聚物的氨基甲酸酯基或者脲基与下式(1)所示的包含烷氧基甲硅烷基的异氰酸酯的异氰酸酯基的反应，在侧链导入烷氧基甲硅烷基：<img file="FDA0001112191130000011.GIF" wi="525" he="334" />式中，X为OR<sup>1</sup>或OH，R<sup>1</sup>分别独立为碳原子数1～4的烷基，R<sup>2</sup>为碳原子数1～6的亚烷基。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||