| 发明名称 | 一种TiNC膜的退镀液及退镀工艺 | ||
| 摘要 | 本发明适用于镀膜处理技术领域，提供了一种TiNC膜的退镀液，所述退镀液的溶剂为去离子水或蒸馏水，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：氯化铵1‑6g/L，氯化铈0.01‑0.5g/L，表面活性剂5‑30g/L，防腐络合剂3‑35g/L，缓蚀剂1‑30g/L。本发明还提供了一种TiNC膜的退镀液的退镀工艺。本发明提供的TiNC膜的退镀液，无毒副作用。在对工件进行退镀处理时，不仅可将工件表面的TiNC膜彻底去除，又不会对工件的基底造成损害。 | ||
| 申请公布号 | CN106435616A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201610886164.8 | 申请日期 | 2016.10.10 |
| 申请人 | 深圳大学 | 发明人 | 向雄志;胡远立;程淼;黄琪 |
| 分类号 | C23G1/26(2006.01)I | 主分类号 | C23G1/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人 | 王利彬 |
| 主权项 | 一种TiNC膜的退镀液，其特征在于，所述退镀液的溶剂为去离子水或蒸馏水，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：<img file="FDA0001127621930000011.GIF" wi="853" he="527" /> | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区南海大道3688号 | ||