发明名称 研磨垫及其制造方法
摘要 本发明以提供研磨速度快且平坦化特性优异的研磨垫及其制造方法作为目的。一种研磨垫,它是具有由聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层的研磨垫,其中,作为所述聚氨酯树脂发泡体的形成材料的聚氨酯树脂在侧链上具有下式(1)所示的烷氧基甲硅烷基,<img file="DDA0001112187240000011.GIF" wi="542" he="262" />(式中,X为OR<sup>1</sup>或OH,R<sup>1</sup>分别独立地表示碳原子数1~4的烷基)。
申请公布号 CN106457509A 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201580013166.X 申请日期 2015.01.23
申请人 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 发明人 清水绅司
分类号 B24B37/24(2006.01)I;C08G18/10(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;C08G101/00(2006.01)I 主分类号 B24B37/24(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 冯雅;陈哲锋
主权项 一种研磨垫,它是具有由聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层的研磨垫,作为所述聚氨酯树脂发泡体的形成材料的聚氨酯树脂在侧链上具有下式(1)所示的烷氧基甲硅烷基:<img file="FDA0001112187210000011.GIF" wi="534" he="255" />式中,X为OR<sup>1</sup>或OH,R<sup>1</sup>分别独立地表示碳原子数1~4的烷基。
地址 美国特拉华州