| 发明名称 | 沉积装置及具有该沉积装置的沉积系统 | ||
| 摘要 | 一种沉积装置，包括：具有主表面的衬底支架，在该主表面上放置衬底；设置于所述主表面上并且包括具有暴露的上部的中空部分的主体；设置在所述主体的内圆周表面处以将所述中空部分分成上部空间和下部空间的等离子体电极单元；和向所述等离子体电极单元供应工艺气体的气体供应单元，其中在所述主体中形成从所述下部空间向设置在所述主体的顶部的排放出口延伸的排气通道。 | ||
| 申请公布号 | CN106435525A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201610652050.7 | 申请日期 | 2016.08.10 |
| 申请人 | ASM知识产权私人控股有限公司 | 发明人 | 孙宗源;金大渊;李相敦;张显秀 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/505(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人 | 杨黎峰;钟锦舜 |
| 主权项 | 一种沉积装置，包括：具有主表面的衬底支架，所述主表面用于放置衬底；设置于所述衬底支架的主表面上并且包括具有暴露的上部的中空部分的主体；设置在所述主体的内圆周表面处并限定所述中空部分的上部空间和下部空间的等离子体电极单元；和向所述等离子体电极单元供应工艺气体的气体供应单元，其中在所述主体中形成从所述下部空间向设置在所述主体的顶部的排放出口延伸的排气通道。 | ||
| 地址 | 荷兰阿尔梅勒 | ||