发明名称 一种应用于检测设备中反光镜的成型方法
摘要 本发明提供了一种应用于检测设备中反光镜的成型方法,该方法将入射光线分割为多束发散角比较小的基本光线,每束基本光线匹配一个反射曲面来将光线聚焦至目标焦点,同时第X个反射曲面所反射的光线聚焦到目标焦点时的入射角度α,根据目标焦点对入射角度为α的光线的强度要求调整第X束光线所匹配的反射曲面的面积大小,从而使得在目标焦点处光线强度随入射角度的变化而调整,与现有技术相比,本发明仅需要一个反光镜,不需要复杂的光学系统即可实现入射光线有效聚焦,同时使得在目标焦点处光线强度随入射角调整,有效的减少了光学器件的数量,使得光学系统结构简单,成本低,调试难度小。
申请公布号 CN104570178B 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201410841047.0 申请日期 2014.12.30
申请人 东莞市沃德普自动化科技有限公司 发明人 康卫彤
分类号 G02B5/10(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I 主分类号 G02B5/10(2006.01)I
代理机构 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人 刘克宽
主权项 一种应用于检测设备中反光镜的成型方法,其特征在于包括:曲面设计步骤:将由LED芯片发出的入射光线分割为N束基本光束,在反光镜的表面预成型与所述N束基本光束一一对应的N个反射曲面,使得每束基本光束都被反射曲面聚焦到目标焦点,其中,所述N不小于3;曲面调整步骤:设待调整的反射曲面为第X个反射曲面,建立在目标焦点处入射角度与光线强度要求的映射关系,计算第X个反射曲面所反射的光线聚焦到目标焦点时的入射角度α,将该入射角度α代入前述映射关系中以求得第X个反射曲面所对应的光线强度要求,根据该光线强度要求调整第X个反射曲面的面积大小;曲面成型步骤:在基本光束照射在反光镜上的照射区域内成型与该束基本光束匹配的反射曲面;所述曲面设计步骤还包括:分光步骤:将由LED芯片发出的入射光线分割N基本光束,所述基本光束的发散角小于其入射光线的发散角;设计步骤:根据基本光束的入射方向和发散角、LED芯片的坐标值和目标焦点的坐标值计算反射曲面函数,使得满足该反射曲面函数的反射曲面能将该束基本光束聚焦于所述目标焦点;所述反射曲面是非球面的二次曲面;所述反射曲面函数满足:<img file="FDA0001116857530000011.GIF" wi="598" he="149" />其中K为二次曲面系数,R为曲率半径,C<sup>2</sup>=X<sup>2</sup>+Y<sup>2</sup>,X,Y,Z是以目标焦点为坐标原点的坐标;所述入射光线被分割为N束基本光束,所述3≤N≤10,所述反光镜上设置有与这N束基本光束一一对应的N个反射曲面,所述N个反射曲面是下述反射曲面中的任意N个:二次曲面系数K为‑0.64、曲率半径R1为18的第一曲面;二次曲面系数K为‑0.640862447,曲率半径R2为17.97842589的第二曲面;二次曲面系数K为‑0.615645193,曲率半径R3为19.61477887的第三曲面;二次曲面系数K为‑0.580721926,曲率半径R4为22.0179688的第四曲面;二次曲面系数K为‑0.548697201,曲率半径R5为24.37035116的第五曲面;二次曲面系数K为‑0.501037454,曲率半径R6为28.18639421的第六曲面;二次曲面系数K为‑0.475262431,曲率半径R7为30.42428424的第七曲面;二次曲面系数K为‑0.451207087,曲率半径R8为32.63122659的第八曲面;二次曲面系数K为‑0.428531802,曲率半径R9为34.81498553的第九曲面;二次曲面系数K为‑0.403004239,曲率半径R10为37.55103339的第十曲面。
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