发明名称 一种通用版图临近效应表征模型及其提取方法
摘要 本发明公开了一种通用版图临近效应表征模型及其提取方法,该方法包括如下步骤:设计LPE模型的器件结构;测量与LPE模型相关的数据;引入与陪衬多晶硅尺寸相关的函数,建立LPE模型;调整所建立的LPE模型的参数,对与陪衬多晶硅尺寸相关的LPE模型进行曲线拟合;若拟合结果满足要求,则对所建立的LPE模型进行模型验证;本发明通过调整与陪衬多晶硅尺寸相关的参数,可以使得该模型更准确表征与器件在不同周边环境下的特性,从而建立更为精确且更实用的模型。
申请公布号 CN106446476A 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201611053506.4 申请日期 2016.11.25
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 张瑜;商干兵;俞柳江
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 智云
主权项 一种通用版图临近效应表征模型,其特征在于:在原有模型中加入与陪衬多晶硅尺寸相关的函数,通过调整模型中与陪衬多晶硅尺寸相关的模型参数,以对该模型进行曲线拟合,从而建立更为精确的器件模型。
地址 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号