| 发明名称 | 用于处理基板上的材料的设备以及用于测量在基板上处理的材料的光学性质的方法 | ||
| 摘要 | 根据本公开的一个方面，提供一种用于处理基板(15)上的材料的设备(40)。所述设备(40)包括真空腔室和测量布置，所述测量布置被配置成用于测量所述基板和/或在所述基板上处理的材料的一或多个光学性质，所述测量布置包括位于所述真空腔室中的至少一个球体结构。 | ||
| 申请公布号 | CN106460165A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201480078893.X | 申请日期 | 2014.05.16 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | J·斯罗伊德;H-G·洛茨 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01)I;G01B11/06(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;G01N21/55(2014.01)I;G01N21/59(2006.01)I;G01N21/47(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 侯颖媖 |
| 主权项 | 一种用于处理基板上的材料的设备，所述设备包括：真空腔室，以及测量布置，所述测量布置被配置成用于测量所述基板和/或在所述基板上处理的所述材料的一或多个光学性质，所述测量布置包括位于所述真空腔室中的至少一个球体结构。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||