| 发明名称 | 制备异氰酸酯的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及通过将相应的胺光气化而制备异氰酸酯的方法，其中可以通过工艺措施，特别是确保在该方法的关键启动和终止步骤中光气相对于光气化的胺过量，防止在该方法的启动（起始）和关闭（终止）过程中由反应段的装置中的沉积物形成引起的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN106458862A | 申请公布日期 | 2017.02.22 |
| 申请号 | CN201580015598.4 | 申请日期 | 2015.03.24 |
| 申请人 | 科思创德国股份有限公司 | 发明人 | T.克瑙夫;A.K.劳施;C.毕恩达尔;M.埃勒斯;P.普拉滕;C.阿尔瓦雷斯埃雷罗;F.穆诺斯贝拉斯科 |
| 分类号 | C07C263/10(2006.01)I;C07C265/14(2006.01)I | 主分类号 | C07C263/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 刘维升;林森 |
| 主权项 | 通过在反应段(1000)中、在目标温度T<sub>目标</sub>下、在惰性溶剂(4)中使相应的胺(2)与光气(3)反应而制备异氰酸酯(1)的连续方法，所述反应段(1000)包含(a) 用于混合胺(2)、光气(3)和惰性溶剂(4)的混合区(1100)和(b) 布置在混合区(1100)下游的反应区(1200)；其中相继运行步骤(A) 启动连续生产，(B) 连续生产，和(C) 停止连续生产，且其中在步骤(A)中，(I) 首先在混合区(1100)和反应区(1200)中(i) 仅至少部分装载惰性溶剂(4)，然后加热至T<sub>目标</sub>，然后另外装载光气(3)，但不装载胺(2)，优选与附加的惰性溶剂(4)一起；或(ii) 至少部分装载惰性溶剂(4)和光气(3)而不装载胺(2)，然后加热至T<sub>目标</sub>；(II) 在步骤(A) (I)后才经由混合区(1100)向反应区(1200)连续供应胺(2)以及附加的光气(3)和附加的惰性溶剂(4)；且在步骤(C)中，为了停止所述连续生产，首先仅终止胺(2)的供应，而仍继续连续供应光气(3)和惰性溶剂(4)。 | ||
| 地址 | 德国勒沃库森 | ||