光学用膜的制造方法

摘要

本发明为一种光学用膜的制造方法，其特征在于，使将特定的嵌段共聚物氢化物[D]压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以上述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与上述光学用膜相向的方式重合而卷绕，上述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。根据本发明，可提供能够适用于偏光板保护膜、相位差膜、透明粘合膜用的基材膜等的由特定的嵌段共聚物氢化物形成的在表面没有擦伤、剥离痕迹的光学用膜的制造方法。

主权项

一种光学用膜的制造方法，其特征在于，是由将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的制造方法，所述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比(wA:wB)为60:40～90:10，使对所述嵌段共聚物氢化物[D]进行压出成型而得的光学用膜和至少一个表面部由树脂[E]形成的保护膜以所述保护膜的由树脂[E]形成的表面部与所述光学用膜相向的方式重合而卷绕，所述树脂[E]在23℃的弯曲弹性模量为1500MPa以下，相对于由嵌段共聚物氢化物[D]形成的光学用膜的粘合性以在23℃的剥离强度计为0.1N/cm以下。