一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置

摘要

本发明公开了一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置。该装置包括He‑Cd激光器，光电快门，短焦距透镜、长焦距透镜，分束器，平面反射镜A、平面反射镜B，光刻胶样品和样品旋转控制系统。He‑Cd激光器发出的激光束经光电快门，短焦距透镜、长焦距透镜，分束器后，成为两束强度相等的激光束，并分别被平面反射镜A、平面反射镜B反射后辐照光刻胶样品进行曝光。通过对光刻胶样品的旋转和多次双光束干涉曝光，以及对激器波长的选择，可刻写制备出一维光栅，二维点阵、六边形、同心等间隔圆环以及纵横周期不同的二维矩形点阵等各种微纳结构。本发明具有结构简单、成本低廉的优势，在微纳结构制造领域具有广泛应用。

主权项

一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置，其特征在于，包括He‑Cd激光器（1）、光电快门（2）、短焦距透镜（3）、长焦距透镜（4）、分束器（5）、平面反射镜A（6）、平面反射镜B（7）、光刻胶样品（8）、样品旋转控制系统（9）：所述的曝光光源为He‑Cd激光器（1），光电快门（2）是控制激光束是否曝光样品以及曝光时间的开关，射出光电快门（2）的光先后经过短焦距透镜（3）、长焦距透镜（4）后被扩束，再经过分束器（5）被分为两束光强和相位均相同的相干光，并沿不同方向出射，最后通过平面反射镜A（6）、平面反射镜B（7）反射后辐照到光刻胶样品（8）上对其进行曝光，通过控制样品旋转控制系统（9）实现对光刻胶样品8不同方式的旋转，进而对光刻胶样品（8）进行不同方式的曝光，经显影、定影等后续工艺处理后即可得到相应的微纳结构。