发明名称 |
电子束通用切割件 |
摘要 |
说明了适合于互补电子束光刻(CEBL)的光刻装置以及涉及互补电子束光刻(CEBL)的方法。在示例中,电子束工具的阻断器孔阵列(BAA)包括沿着第一方向的第一列开口。BAA还包括沿着第一方向并与第一列开口交错的第二列开口。第一列开口和第二列开口一起形成在第一方向上具有间距的阵列。BAA的扫描方向沿着与第一方向正交的第二方向。阵列的间距对应于与第二方向平行取向的线的目标图案的最小间距布局的一半。 |
申请公布号 |
CN106463353A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201480078821.5 |
申请日期 |
2014.12.19 |
申请人 |
英特尔公司 |
发明人 |
Y·A·波罗多维斯基;D·W·纳尔逊;M·C·菲利普斯 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
陈松涛;韩宏 |
主权项 |
一种用于电子束工具的阻断器孔阵列(BAA),所述BAA包括:沿着第一方向的第一列开口;以及沿着所述第一方向并与所述第一列开口交错的第二列开口,所述第一列开口和所述第二列开口一起形成在所述第一方向上具有间距的阵列,其中,所述BAA的扫描方向沿着与所述第一方向正交的第二方向,并且其中,所述阵列的所述间距对应于与所述第二方向平行取向的线的目标图案的最小间距布局的一半。 |
地址 |
美国加利福尼亚 |