发明名称 一种电镀污水处理系统
摘要 本实用新型公开了一种电镀污水处理系统,包括电解池、中和反应池、沉淀池、絮凝池、活性炭吸附池、清水池,所述电解池上部设有支架,所述支架与绝缘层之间通过立柱固定连接,所述支架一侧设有正电极,另一侧设有负电极,所述电解池一侧设有中和反应池,所述中和反应池一侧设有沉淀池,所述斜管体下方设有污泥斗,所述污泥斗之间设有穿孔排泥管,所述沉淀池一侧设有絮凝池,所述絮凝池一侧设有活性炭吸附池,所述活性炭吸附池内部设有活性炭吸附层,所述活性炭吸附层两侧设有过滤层,所述活性炭吸附池一侧设有清水池,本实用新型适用范围广、处理效果好、成本低廉、处理时间短、操作维护方便、电力消耗低等优点,广泛应用于工业废水的预处理和深度处理。
申请公布号 CN205974104U 申请公布日期 2017.02.22
申请号 CN201620878560.1 申请日期 2016.08.13
申请人 赵文慧 发明人 赵文慧
分类号 C02F9/06(2006.01)I;C02F103/16(2006.01)N 主分类号 C02F9/06(2006.01)I
代理机构 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人 李桂存
主权项 一种电镀污水处理系统,包括电解池、中和反应池、沉淀池、絮凝池、活性炭吸附池、清水池,其特征在于所述电解池包括绝缘层、立柱、支架、正电极、负电极,所述电解池上部设有支架,所述支架与绝缘层之间通过立柱固定连接,所述支架一侧设有正电极,另一侧设有负电极;所述电解池一侧设有中和反应池,所述中和反应池一侧设有沉淀池;所述沉淀池包括斜管体、穿孔排泥管、污泥斗,所述斜管体下方设有V形污泥斗,所述污泥斗之间设有穿孔排泥管;所述沉淀池一侧设有絮凝池,所述絮凝池一侧设有活性炭吸附池,所述活性炭吸附池内部设有活性炭吸附层,所述活性炭吸附层两侧设有过滤层,所述活性炭吸附池一侧设有清水池。
地址 250221 山东省济南市章丘市曹范镇北曹范村政府大街3号