发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION RESIST LAMINATE CURED PRODUCT OF PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT OF RESIST LAMINATE 11
摘要 본 발명은, 반도체나 MEMS·마이크로 머신 어플리케이션 분야에 있어서, 경화물의 잔류 응력이 매우 낮고, 습열 시험 후의 Pt, LT 및 Ta 등의 금속 기판과의 밀착성이 우수한 수지 조성물 및/또는 그 적층체, 그리고 그 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, (A) 에폭시 수지, (B) 페놀성 수산기를 갖는 화합물 및 (C) 광 카티온 중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물로서, (A) 에폭시 수지의 가중 평균 에폭시 당량이 300 g/eq. 이상이고, 또한, 그 (A) 에폭시 수지의 20 질량% 이상이, 하기 식 (1)로 나타내고, 또한 에폭시 당량이 500 ∼ 4500 g/eq. 인 에폭시 수지이고, 그 (B) 페놀성 수산기를 갖는 화합물이, 특정 구조의 페놀 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물이다.
申请公布号 KR20170019351(A) 申请公布日期 2017.02.21
申请号 KR20167034449 申请日期 2015.06.09
申请人 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 发明人 이마이즈미 나오코;오노 요시유키;고이즈미 다카노리;구마가이 마키;이나가키 신야
分类号 G03F7/004;C08G59/62;G03F7/028;G03F7/038;G03F7/075 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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