发明名称 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR PERMANENT FILMS RESIST MATERIAL AND COATING FILM
摘要 본 발명은, 광감도, 해상도, 내열성, 및 내흡습성이 우수하며, 또한 고온 환경 하에 있어서 오염이 생기기 어려운, 영구막의 재료로서 호적(好適)한 감광성 조성물 등을 제공하는 것을 목적으로 해서, 일반식(1)으로 표시되는 구조 부위(I)를 반복 단위로서 갖고 있고, 일반식(2)으로 표시되는 히드록시나프탈렌류(A)의 함유량이 수지 고형분 환산으로 2질량% 이하인 히드록시나프탈렌노볼락 수지를 함유하고, 경화제를 함유하고 있지 않은, 또는 상기 수지 100질량부에 대해서 50질량부 이하의 경화제를 함유하는 영구막용 감광성 조성물을 제공한다[식 중, R은 수소 원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아랄킬기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 존재하는 R은 서로 동일해도 되며 달라도 되고, R은 수소 원자, 알킬기, 또는 아릴기를 나타내고, p는 1 또는 2를, q는 4 또는 5를 나타낸다. 단, p와 q의 합은 6이다].
申请公布号 KR20170019346(A) 申请公布日期 2017.02.21
申请号 KR20167032857 申请日期 2015.05.19
申请人 디아이씨 가부시끼가이샤 发明人 이마다 도모유키;기모토 세이지;사토 유스케
分类号 G03F7/023;G03F7/004 主分类号 G03F7/023
代理机构 代理人
主权项
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